Strojwas, Andrzej J.: шукати на сайті Z-Library

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (64)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '90, 4-9 Mar, San Jose - San Jose, CA (Sunday 4 March 1990)] Optical/Laser Microlithography III - Modeling of optical alignment and metrology schemes used in integrated circuit manufacturing

Yuan, Chi-Min, Strojwas, Andrzej J., Pol, Victor

Рік:

1990

Мова:

english

Файл:

PDF, 789 KB

english, 1990

[IEEE 2019 MIXDES - 26th International Conference "Mixed Design of Integrated Circuits and Systems" - Rzeszów, Poland (2019.6.27-2019.6.29)] 2019 MIXDES - 26th International Conference "Mixed Design of Integrated Circuits and Systems" - Yield and Reliability Challenges at 7nm and Below

Strojwas, Andrzej J., Doong, Kelvin, Ciplickas, Dennis

Рік:

2019

Файл:

PDF, 1.36 MB

2019

Influence of briquetting on thermal behavior of bituminous coal oxidized during storage

Zubkova, Valentina, Strojwas, Andrzej

Журнал:

Journal of Analytical and Applied Pyrolysis

Рік:

2020

Файл:

PDF, 12.02 MB

2020

SPIE Proceedings [SPIE Photomask and NGL Mask Technology XVII - Yokohama, Japan (Tuesday 13 April 2010)] Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XVII - Design compliant source mask optimization (SMO)

Socha, Robert, Jhaveri, Tejas, Dusa, Mircea, Liu, Xiaofeng, Chen, Luoqi, Hsu, Stephen, Li, Zhipan, Strojwas, Andrzej J., Hosono, Kunihiro

Рік:

2010

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.20 MB

english, 2010

Influence of oxide thickness nonuniformities on the tunnel current-voltage and capacitance-voltage characteristics of the metal-oxide-semiconductor system

Majkusiak, Bogdan, Strojwas, Andrzej

Журнал:

Journal of Applied Physics

Рік:

1993

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.50 MB

english, 1993

[IEEE 2014 IEEE/ACM International Conference on Computer-Aided Design (ICCAD) - San Jose, CA, USA (2014.11.2-2014.11.6)] 2014 IEEE/ACM International Conference on Computer-Aided Design (ICCAD) - Sub-20 nm design technology co-optimization for standard cell logic

Vaidyanathan, Kaushik, Liebmann, Lars, Strojwas, Andrzej, Pileggi, Larry

Рік:

2014

Мова:

english

Файл:

PDF, 3.25 MB

english, 2014

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 24 February 2013)] Design for Manufacturability through Design-Process Integration VII - Rethinking ASIC design with next generation lithography and process integration

Vaidyanathan, Kaushik, Liu, Renzhi, Liebmann, Lars, Lai, Kafai, Strojwas, Andrzej, Pileggi, Larry, Mason, Mark E., Sturtevant, John L.

Рік:

2013

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.92 MB

english, 2013

The Influence of Freezing on the Course of Carbonization and Pyrolysis of a Bituminous High-Volatile Coal

Zubkova, Valentina, Strojwas, Andrzej

Журнал:

Energies

Рік:

2020

Файл:

PDF, 11.87 MB

2020

Design for manufacturability and yield

Andrzej J. Strojwas

Журнал:

Microelectronics Journal

Рік:

1990

Мова:

english

Файл:

PDF, 693 KB

english, 1990

Modeling optical microscope images of integrated-circuit structures

Yuan, Chi-Min, Strojwas, Andrzej J.

Журнал:

Journal of the Optical Society of America A

Рік:

1991

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.15 MB

english, 1991

Efficient and rigorous three-dimensional model for optical lithography simulation

Lucas, Kevin D., Tanabe, Hiroyoshi, Strojwas, Andrzej J.

Журнал:

Journal of the Optical Society of America A

Рік:

1996

Мова:

english

Файл:

PDF, 394 KB

english, 1996

Some aspects of catalytic activity of pyrolyzed coals

Zubkova, Valentina, Grigoreva, Evgenija, Strojwas, Andrzej, Czaplicka, Marianna, Prezhdo, Victor, Pruszkowska, Jolanta

Журнал:

Thermochimica Acta

Рік:

2013

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.26 MB

english, 2013

[IEEE 2006 International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM) - Tokyo, Japan (2006.09.25-2006.09.27)] 2006 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing - Conquering Process Variability: A Key Enabler for Profitable Manufacturing in Advanced Technology Nodes

Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 7.07 MB

english, 2006

[IEEE 2010 IEEE Symposium on VLSI Technology - Honolulu, HI, USA (2010.06.15-2010.06.17)] 2010 Symposium on VLSI Technology - Enabling application-specific integrated circuits on limited pattern constructs

Morris, Daniel, Rovner, Vyacheslav, Pileggi, Larry, Strojwas, Andrzej, Vaidyanathan, Kaushik

Рік:

2010

Мова:

english

Файл:

PDF, 591 KB

english, 2010

PROD: A VLSI Fault Diagnosis System

Odryna, Peter, Strojwas, Andrzej

Журнал:

IEEE Design & Test of Computers

Рік:

1985

Мова:

english

Файл:

PDF, 8.34 MB

english, 1985

[IEEE 2011 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Application (VLSI-TSA) - Hsinchu, Taiwan (2011.04.25-2011.04.27)] Proceedings of 2011 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Applications - Cost effective scaling to 22nm and below technology nodes

Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 266 KB

english, 2011

The CMU-CAM System

Strojwas, Andrzej

Журнал:

IEEE Design & Test of Computers

Рік:

1986

Мова:

english

Файл:

PDF, 10.30 MB

english, 1986

[IEEE 2010 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD 2010) - Bologna, Italy (2010.09.6-2010.09.8)] 2010 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices - Cost-effective variability reduction approaches to enable future technology nodes

Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2010

Мова:

english

Файл:

PDF, 31 KB

english, 2010

[IEEE 2008 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) - San Francisco, CA, USA (2008.12.15-2008.12.17)] 2008 IEEE International Electron Devices Meeting - Taking the next step in moore's law: Designs turn to enable next technology node

Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2008

Мова:

english

Файл:

PDF, 475 KB

english, 2008

Comparative Analysis of Structural Transformations of Two Bituminous Coals with Different Maximum Fluidity during Carbonization

Zubkova, Valentina, Prezhdo, Victor, Strojwas, Andrzej

Журнал:

Energy & Fuels

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 354 KB

english, 2007

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 27th Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 3 March 2002)] Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVI - Three-dimensional modeling of wafer inspection schemes for sub-70-nm lithography

Zhu, Zhengrong, Swecker, Aaron L., Strojwas, Andrzej J., Herr, Daniel J. C.

Рік:

2002

Мова:

english

Файл:

PDF, 134 KB

english, 2002

[ACM Press the 50th Annual Design Automation Conference - Austin, Texas (2013.05.29-2013.06.07)] Proceedings of the 50th Annual Design Automation Conference on - DAC '13 - Automatic clustering of wafer spatial signatures

Zhang, Wangyang, Li, Xin, Saxena, Sharad, Strojwas, Andrzej, Rutenbar, Rob

Рік:

2013

Мова:

english

Файл:

PDF, 405 KB

english, 2013

[ACM Press the 37th conference - Los Angeles, California, United States (2000.06.05-2000.06.09)] Proceedings of the 37th conference on Design automation - DAC '00 - Impact of interconnect variations on the clock skew of a gigahertz microprocessor

Liu, Ying, Nassif, Sani R., Pileggi, Lawrence T., Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2000

Мова:

english

Файл:

PDF, 72 KB

english, 2000

[ACM Press the 28th conference - San Francisco, California, United States (1991.06.17-1991.06.22)] Proceedings of the 28th conference on ACM/IEEE design automation conference - DAC '91 - The role of timing verification in layout synthesis

Benkoski, Jacques, Strojwas, Andrzej J.

Рік:

1991

Мова:

english

Файл:

PDF, 868 KB

english, 1991

[ACM Press the 1998 international symposium - Monterey, California, United States (1998.04.06-1998.04.08)] Proceedings of the 1998 international symposium on Physical design - ISPD '98 - A pattern matching algorithm for verification and analysis of very large IC layouts

Niewczas, Mariusz, Maly, Wojciech, Strojwas, Andrzej

Рік:

1998

Мова:

english

Файл:

PDF, 68 KB

english, 1998

[ACM Press the 2005 international symposium - San Francisco, California, USA (2005.04.03-2005.04.06)] Proceedings of the 2005 international symposium on physical design - ISPD '05 - Tutorial on DFM for physical design

Strojwas, Andrzej

Рік:

2005

Файл:

PDF, 69 KB

2005

[ACM Press the 2000 conference - Yokohama, Japan (2000..-..)] Proceedings of the 2000 conference on Asia South Pacific design automation - ASP-DAC '00 - Design for manufacturability: a path from system level to high yielding chips

Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2000

Мова:

english

Файл:

PDF, 19 KB

english, 2000

[ACM Press the 36th ACM/IEEE conference - New Orleans, Louisiana, United States (1999.06.21-1999.06.25)] Proceedings of the 36th ACM/IEEE conference on Design automation conference - DAC '99 - Model order-reduction of RC(L) interconnect including variational analysis

Liu, Ying, Pileggi, Lawrence T., Strojwas, Andrzej J.

Рік:

1999

Мова:

english

Файл:

PDF, 61 KB

english, 1999

[ACM Press the 42nd annual conference - San Diego, California, USA (2005.06.13-2005.06.17)] Proceedings of the 42nd annual conference on Design automation - DAC '05 - Correlation-aware statistical timing analysis with non-gaussian delay distributions

Zhan, Yaping, Strojwas, Andrzej J., Li, Xin, Pileggi, Lawrence T., Newmark, David, Sharma, Mahesh

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 269 KB

english, 2005

[ACM Press the 35th annual conference - San Francisco, California, United States (1998.06.15-1998.06.19)] Proceedings of the 35th annual conference on Design automation conference - DAC '98 - ftd

Liu, Ying, Pileggi, Lawrence T., Strojwas, Andrzej J.

Рік:

1998

Мова:

english

Файл:

PDF, 80 KB

english, 1998

[ACM Press the 31st annual conference - San Diego, California, United States (1994.06.06-1994.06.10)] Proceedings of the 31st annual conference on Design automation conference - DAC '94 - MONSTR

Koval, Vladimir, Farmaga, Igor W., Strojwas, Andrzej J., Director, Stephen W.

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 99 KB

english, 1994

SPIE Proceedings [SPIE SPIE 31st International Symposium on Advanced Lithography - San Jose, CA (Sunday 19 February 2006)] Design and Process Integration for Microelectronic Manufacturing IV - Maximization of layout printability/manufacturability by extreme layout regularity

Jhaveri, Tejas, Pileggi, Larry, Rovner, Vyacheslav, Strojwas, Andrzej J., Wong, Alfred K. K., Singh, Vivek K.

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 706 KB

english, 2006

[ACM Press the 2002 international symposium - San Diego, CA, USA (2002.04.07-2002.04.10)] Proceedings of the 2002 international symposium on Physical design - ISPD '02 - Understanding and addressing the impact of wiring congestion during technology mapping

Pandini, Davide, Pileggi, Lawrence T., Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2002

Мова:

english

Файл:

PDF, 407 KB

english, 2002

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Photomask Technology - Monterey, CA (Monday 14 September 2009)] Photomask Technology 2009 - Economic assessment of lithography strategies for the 22nm technology node

Jhaveri, Tejas, Strojwas, Andrzej, Pileggi, Larry, Rovner, Vyacheslav, Zurbrick, Larry S., Montgomery, M. Warren

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 144 KB

english, 2009

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California (Sunday 27 February 2011)] Design for Manufacturability through Design-Process Integration V - Using templates and connectors for layout pattern minimization in 20nm and below technology nodes

Jhaveri, Tejas K., Strojwas, Andrzej J., Rieger, Michael L.

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.24 MB

english, 2011

SPIE Proceedings [SPIE Microelectronic Manufacturing - Austin, TX (Tuesday 18 October 1994)] Manufacturing Process Control for Microelectronic Devices and Circuits - Model-based equipment diagnosis

Collins, David J., Strojwas, Andrzej J., Mozumder, P. K., Sabnis, Anant G.

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.04 MB

english, 1994

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 22 February 2009)] Optical Microlithography XXII - OPC simplification and mask cost reduction using regular design fabrics

Jhaveri, Tejas, Levinson, Harry J., Dusa, Mircea V., Stobert, Ian, Liebmann, Lars, Karakatsanis, Paul, Rovner, Vyacheslav, Strojwas, Andrzej, Pileggi, Larry

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 363 KB

english, 2009

SPIE Proceedings [SPIE 23rd Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 22 February 1998)] Optical Microlithography XI - Metropole-3D: a rigorous 3D topography simulator

Li, Xiaolei, Lucas, Kevin D., Swecker, Aaron L., Strojwas, Andrzej J., Van den Hove, Luc

Рік:

1998

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.72 MB

english, 1998

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California (Sunday 12 February 2012)] Design for Manufacturability through Design-Process Integration VI - Design and manufacturability tradeoffs in unidirectional and bidirectional standard cell layouts in 14 nm node

Vaidyanathan, Kaushik, Ng, Siew Hoon, Morris, Daniel, Lafferty, Neal, Liebmann, Lars, Bender, Mitchell, Huang, Wenbin, Lai, Kafai, Pileggi, Larry, Strojwas, Andrzej, Mason, Mark E.

Рік:

2012

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.08 MB

english, 2012

[IEEE Systems (DDECS) - Cottbus, Germany (2011.04.13-2011.04.15)] 14th IEEE International Symposium on Design and Diagnostics of Electronic Circuits and Systems - Cost effective scaling to 22nm and below technology nodes

Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 57 KB

english, 2011

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2003 - Santa Clara, CA (Sunday 23 February 2003)] Emerging Lithographic Technologies VII - Rigorous EUV mask simulator using 2D and 3D waveguide methods

Zhu, Zhengrong, Lucas, Kevin, Cobb, Jonathan L., Hector, Scott D., Strojwas, Andrzej J., Engelstad, Roxann L.

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 194 KB

english, 2003

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2004 - Santa Clara, CA (Sunday 22 February 2004)] Optical Microlithography XVII - A superfast 3D lithography simulator and its application for ULSI printability analysis

Zhu, Zhengrong, Smith, Bruce W., Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 113 KB

english, 2004

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 24 February 2008)] Optical Microlithography XXI - Enabling technology scaling with "in production" lithography processes

Jhaveri, Tejas, Strojwas, Andrzej, Pileggi, Larry, Rovner, Vyachelav

Рік:

2008

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.24 MB

english, 2008

SPIE Proceedings [SPIE Photomask Technology - Sunnyville, CA (Wednesday 23 September 1992)] 12th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management - Vector modeling of defects and defect repair for phase-shifting masks

Lucas, Kevin D., Strojwas, Andrzej J., Landstrom, Scott, LaFrance, Richard

Рік:

1993

Мова:

english

Файл:

PDF, 469 KB

english, 1993

SPIE Proceedings [SPIE Microelectronic Manufacturing - Austin, TX (Wednesday 1 October 1997)] Microelectronic Manufacturing Yield, Reliability, and Failure Analysis III - Modeling of defect propagation/growth for yield impact prediction in VLSI manufacturing

Li, Xiaolei, Strojwas, Andrzej J., Swecker, Aaron L., Reddy, Mahesh, Milor, Linda, Lin, YungTao, Keshavarzi, Ali, Prasad, Sharad, Hartmann, Hans-Dieter

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 767 KB

english, 1997

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2004 - Santa Clara, CA (Sunday 22 February 2004)] Optical Microlithography XVII - Propagation of EM waves in axial symmetric structures and its implication for 3D rigorous lithography process simulation

Zhu, Zhengrong, Smith, Bruce W., Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 89 KB

english, 2004

[IEEE 2016 IEEE 34th VLSI Test Symposium (VTS) - Las Vegas, NV, USA (2016.4.25-2016.4.27)] 2016 IEEE 34th VLSI Test Symposium (VTS) - Keynote address: Challenges and opportunities in electrical characterization and test for 14nm and below

Strojwas, Andrzej J., Abraham, Jacob, Hao, Hong, Shulaker, Max

Рік:

2016

Файл:

PDF, 150 KB

2016

SPIE Proceedings [SPIE Photomask Technology - Monterey, CA (Monday 8 September 2003)] 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology - METROPOLE-3D: a three-dimensional electromagnetic field simulator for EUV masks under oblique illumination

Zhu, Zhengrong, Kimmel, Kurt R., Staud, Wolfgang, Lucas, Kevin D., Cobb, Jonathan L., Hector, Scott D., Strojwas, Andrzej J.

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 184 KB

english, 2003

SPIE Proceedings [SPIE SPIE'S 1993 Symposium on Microlithography - San Jose, CA (Sunday 28 February 1993)] Optical/Laser Microlithography - Intensity optimization for phase-shifting masks

Lucas, Kevin D., Strojwas, Andrzej J., Low, K. K., Yuan, Chi-Min, Cuthbert, John D.

Рік:

1993

Мова:

english

Файл:

PDF, 384 KB

english, 1993

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1994 Symposium on Microlithography - San Jose, CA (Sunday 27 February 1994)] Optical/Laser Microlithography VII - Evaluation of new attenuating phase-shifting mask techniques

Lucas, Kevin D., Strojwas, Andrzej J., Low, K. K., Brunner, Timothy A.

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 719 KB

english, 1994